台基半導體股份（fèn）有限公司高（gāo）純水係統采用雙級反滲透+混（hún）合床+拋光混合（hé）床工藝，產水電阻率18MΩ·CM以上，全不鏽鋼拋光設（shè）備，產水量40m3/h。現場設備（bèi）運行（háng）圖片如下：

預處理及反滲透設備

預處理工藝為砂濾器+炭濾器+軟（ruǎn）化器 

軟化器及再（zài）生裝置

雙級反滲透（tòu）設備，全觸摸屏（píng）自動控製

後處理為混合床+拋光混床組

高純水電阻率（lǜ）大於18MΩ·CM